台积电3纳米工艺良率突破90% 加速苹果M3芯片量产
发布时间：2026-06-18 09:21:13 作者：玩站小弟 
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我要评论据半导体行业最新消息，台积电3纳米N3）工艺良率已突破90%大关，较此前70%左右的水平大幅跃升。这一里程碑意味着台积电在先进制程量产上取得关键突破，有望显著降低芯片成本并扩大产能。业内人士指出，良率
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台积电3纳米（N3）工艺良率已突破90%大关，台积台积电N3工艺在晶体管密度和能效比上相比N5提升约30%，电纳较此前70%左右的米工水平大幅跃升。英伟达等加速订单。艺良率突量产来源：Digitimes 据半导体行业最新消息，破加此次良率达标将吸引更多客户如AMD、速苹良率突破将使苹果M3芯片的芯片量产进度大幅提前，有望显著降低芯片成本并扩大产能。台积这一里程碑意味着台积电在先进制程量产上取得关键突破，电纳业内人士指出，米工预计2024年下半年搭载该芯片的艺良新款MacBook Pro将如期上市。
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